Grafen (Gr), yeni elektronik, fotonik ve kompozit malzemelerin geliştirilmesinde büyük ilgi görmektedir. Gr'nin fiziksel özellikleri katman sayısına bağlı olarak değişebilmekte ve bu benzersiz özelliği onu farklı elektronik uygulamalar için potansiyel bir malzeme yapmaktadır. Bu çalışmada InP yarı iletken yüzeyi üzerine birkaç katmanlı grafen (FLG) filmi döndürerek kaplandı ve FLG/n-InP Schottky kontakları üretildi. FLG nano filminin özellikleri ve kalitesi Raman spektroskopisi kullanılarak belirlendi. Schottky kontaklarının idealite faktörü, bariyer yüksekliği ve seri direnci gibi parametreler akım-gerilim (I-V) eğrileri kullanılarak hesaplandı. Gauss dağılımı ile Gr/InP kontaklarının ortalama idealite faktörü
Graphene (Gr) is of great interest in the development of new electronic, photonic, and composite materials. The physical properties of Gr can vary depending on the number of layers, and this unique property makes it a potential material for different electronic applications. In this study, few-layer graphene (FLG) film was spin-coated onto the InP semiconductor surface and the FLG/n-InP Schottky contact was produced. The properties and quality of the FLG nano-film were determined by using Raman spectroscopy. Parameters such as ideality factor, barrier height, and series resistance of Schottky contacts were calculated using current-voltage (I-V) curves. With the Gaussian distribution, the mean ideality factor of the Gr/InP contacts was found to be
Primary Language | English |
---|---|
Subjects | Engineering |
Journal Section | Articles |
Authors | |
Early Pub Date | March 25, 2023 |
Publication Date | March 31, 2023 |
Published in Issue | Year 2023 Issue: 49 |