The corrosion products which are formed after corrosion of metalic biomaterials enter into the surrounding cells and cause damage. Therefore, different surface processes are applied to the biomaterials. In this study, CoCrMo alloy was used as biomaterial and oxidized in 100% O2 gas atmosphere at 600°C and 800°C temperature for 1 and 4 hours. Potantiostat/Galvanostat device was used to determine the corrosion and semiconductivity properties of obtained oxide film at the different treatment conditions. XRD and SEM were used to analyze of the structural properties. Mott–Schottky (M-S) analysis was carried out to determine the changes in the electronic properties of the formed passive film in simulated body fluid (SBF). Mott–Schottky analysis results show that a semiconducting passive film formed on plasma oxidized CoCrMo alloy and the electronic characteristics converted from n-type to p-type depending on the film formation potential. after plasma oxidation process, it was determined that corrosion strength improved depending on the oxidation temperature and time. It was seen that the best corrosion resistance was reached after oxidizing process at 800°C temperature for 4 hours
Metalik biyomalzemelerin korozyona uğraması sonucu oluşan korozyon ürünleri doku içerisine girerek hücrelere zarar verirler. Bu nedenle, biyomalzemelere çeşitli yüzey işlemleri uygulanmaktadır. Bu çalışmada, biyomalzeme olarak kullanılan CoCrMo alaşımı, %100 O2 gazı ortamında, 600°C ve 800°C sıcaklıkta, 1 ve 4 saat süre ile plazma oksitlenmiştir. Farklı işlem şartlarında elde edilen oksit filmin, korozyon ve yarıiletkenlik özelliklerinin belirlenmesi için Potansiyostat/Galvaniyostat cihazı, malzemenin yapısal özelliklerinin belirlenmesi için ise XRD ve SEM kullanılmıştır. Yapay vücut sıvısında (SBF) oluşan pasif filmin elektronik özelliklerindeki değişimleri belirlemek amacıyla ise Mott-Schottky (M-S) analizleri yapılmıştır. Mott-Schottky (M-S) analizleri sonucunda, plazma ile oksitlenmiş CoCrMo alaşımı üzerinde oluşan pasif filmin yarıiletken davranışı elde edilmiş ve film oluşma potansiyeline bağlı olarak elektronik karakteristiğin n tipinden p tipine geçiş yaptığı gözlemlenmiştir. Plazma oksidasyon işlemi sonrası korozyon dayanımının oksitleme sıcaklığı ve süresine bağlı olarak iyileştiği tespit edilmiştir. En iyi korozyon direncine 800°C sıcaklıkta 4 saatlik oksitleme işlemi sonucunda ulaşıldığı görülmüştür.
Primary Language | Turkish |
---|---|
Journal Section | SI: BioMechanics2014 |
Authors | |
Publication Date | December 30, 2014 |
Submission Date | December 30, 2014 |
Published in Issue | Year 2014 Volume: 2 Issue: 3 |