Amaç: Bu in vitro çalışmanın amacı kendinden
pürüzlendirmeli (self-etch) adeziv sistemlerin
bağlanma dayanımlarının karşılaştırılmasıdır.
Gereç ve Yöntemler: Bu araştırmada çekilmiş 100 tane insan üçüncü molar
dişi kullanıldı. Bu dişler rastgele 5
farklı gruba ayrıldı (n=20). Her dişe, mezio-bukkal ve disto-bukkal
yüzeylerinde olacak şekilde üst birinci premolar braketleri yapıştırıldı
(kontrol ve deney grubu). Tüm gruplarda, rastgele seçilen kontrol yüzeyleri
total etch sistem ile bondlandı. Bonding ajanı olarak grup I’de Transbond Plus
SEP (3M Unitek, Monrovia, Calif); grup II’de kuraray self plus; grup III’de
kuraray self; Grup IV’de ormco self etch; Grup V’de AdheSE (Ivoclar Vivadent
AG, Schaan, Liechtenstein) kullanıldı. Braketleme sonrası dişler 24 saat 37 C°
distile suda bekletilip, termocycling cihazında yapılan 5000 tur sonrasında,
hızı 1mm/dk olan universal test cihazında shear testi yapıldı. İstatistiksel
değerlendirme tek yönlü varyans analizi ve tukey testleri ile yapıldı.
Bulgular: İstatistiksel analizler self etch sistemlerin total
etch sisteme göre azalan bağlanma dayanımları arasında anlamlı bir fark
olduğunu gösterdi (P<0.05). Grup II
(%30,1) en az bağlanma dayanımı kaybına sahip olmakla beraber grup I (%31,95)
ile arasında anlamlı bir farklılık gözlenmedi. Grup III’ün (%36,65) bağlanma
dayanımı kaybı Grup V’e (%40,3) göre daha düşük bulundu. Grup IV (%49,5) ise
diğer gruplara göre en fazla bağlanma dayanımı kaybı gösterdi.
Sonuçlar: Total etch sistem ile yapıştırılan braketlerin
bağlanma dayanıklılıkları self etch sistemlerinkine göre daha iyidir. Ancak
bazı firmaların ürettiği self etch sistemler klinik olarak anlamlı derecede
yüksek bağlanma dayanımı göstermektedir.
Anahtar Kelimeler:Bağlanma, kendinden pürüzlendirmeli adeziv sistem, makaslama
bağlanma dayanımı
Subjects | Dentistry |
---|---|
Journal Section | Research |
Authors | |
Publication Date | December 1, 2017 |
Submission Date | April 12, 2017 |
Published in Issue | Year 2017 Volume: 4 Issue: 3 |
Selcuk Dental Journal is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License (CC BY NC).