Karbon atomlarının hekzagonal örgüde bir araya gelerek oluşturduğu tek atom kalınlığındaki grafen son yılların en yoğun araştırılan konularından bir tanesi olmasının yanı sıra yüksek elektrik ve ısı iletkenliği, yüksek ışık geçirgenliği, yüksek dayanım ve geniş yüzey alanı gibi birçok üstün özellikleri ile geniş bir yelpazede kullanım alanına sahiptir. Bu üstün özelliklere karşın grafenin sahip olduğu yüksek tabak direnci ve yasak enerji aralığının olmaması grafenin optoelektronik uygulamalarda kullanımını sınırlamaktadır. Grafenin bu dezavantajları grafen yapısına yapılan katkılamalarla aşılabilmektedir. Ancak, katkılı grafen sentez sürecince katkıcı seçimi ve sentez yöntemi çok önemli olmakla birlikte özellikle katkılamanın kalıcılığı ve homojenliği daha değerlidir. Bu çalışmada CVD sistemi kullanılarak bakır folyo üzerinde katkısız ve nitrojen katkılı grafen sentezi ve karakterizasyonu gerçekleştirilmiştir. Katkılı grafen sentezi için piridin kullanılmış olup, piridin hem karbon hem de nitrojen kaynağı olarak kullanılmıştır. CVD tekniğinin kullanımı hem homojen hem de kalıcı katkılama gerçekleştirilebilmesine imkan vermiştir. Çalışma kapsamında ayrıca piridine ek olarak sentez sırasında CVD sistemine düşük miktarda metan gaz akışı sağlanarak film kalınlığı optimize edilmiştir. Katkılı filmlerin karakterizasyonu kapsamında Raman spektroskopisi, Enerji Dağılımlı X-ışını spektroskopisi ve X-ışını foto elektron spektroskopisi teknikleri kullanılmış olup, film kalitesi, kalınlığı, homojenliği, katkılama oranı ve türü belirlenmiştir.
TÜBİTAK
117M401
Bu çalışma TÜBİTAK tarafından 117M401 nolu proje ile desteklenmiştir.
Having a single atom thickness formed by the combination of carbon atoms in a hexagonal mesh, graphene has been one of the most intensely researched areas in recent years. This is especially due to its wide range of uses thanks to its numerous superior properties such as high electrical and thermal conductivity, high light transmittance, high strength and large surface area. Despite these superior properties, graphene's high sheet resistance and lack of energy band gap limit its use in optoelectronic applications. Yet, these disadvantages can be overcome by implementing doping to the graphene structure. However, although the doping selection and synthesis method are very important in the doped graphene synthesis process, the permanence and homogeneity of the doping is even more critical. In this study, the synthesis and characterization of pure and nitrogen-doped graphene were carried out on copper foil using CVD system. Pyridine was used for the synthesis of the doped graphene, as a carbon and nitrogen source. We found out that the use of the CVD technique allows both homogeneous and permanent doping. In addition to pyridine, in the present study, the film thickness was also optimized by providing a low amount of methane gas flow to the CVD system during the synthesis. To enable the characterization of doped films, Raman spectroscopy, Energy Dispersive X-ray spectroscopy and X-ray photo electron spectroscopy techniques were used, and the film quality, thickness, homogeneity, doping rate and type were determined.
117M401
Birincil Dil | Türkçe |
---|---|
Konular | Mühendislik |
Bölüm | Araştırma Makalesi |
Yazarlar | |
Proje Numarası | 117M401 |
Yayımlanma Tarihi | 1 Haziran 2022 |
Gönderilme Tarihi | 24 Kasım 2020 |
Yayımlandığı Sayı | Yıl 2022 Cilt: 25 Sayı: 2 |
Bu eser Creative Commons Atıf-AynıLisanslaPaylaş 4.0 Uluslararası ile lisanslanmıştır.