Tek kristal yüzey ultra yüksek vakum temizleme implantasyon alma katmanı
single crystal low-temperature Si and GaAs surface ultrahigh vacuum cleaning implantation gettering layer
Birincil Dil | İngilizce |
---|---|
Konular | Mühendislik |
Bölüm | Araştırma Makalesi |
Yazarlar | |
Yayımlanma Tarihi | 1 Aralık 2023 |
Gönderilme Tarihi | 22 Mayıs 2022 |
Yayımlandığı Sayı | Yıl 2023 Cilt: 26 Sayı: 4 |
Bu eser Creative Commons Atıf-AynıLisanslaPaylaş 4.0 Uluslararası ile lisanslanmıştır.