Metal-Yalıtkan-Yarıiletken (MYY) Al/Si3N4/p-Si Schottky engel diyotlarının akım-voltaj (I-V)
karakteristikleri oda sıcaklığında ölçüldü. Al/Si3N4/p-Si yapılar elektrokimyasal anodizasyon metodu ile
üretilmiştir. p tipi silisyumun yüzeyi nitridasyon işlemiyle pasive edildi. Akım-Voltaj karakteristikleri
üzerine arayüzey durum yoğunluğu (Nss) ,arayüzey tabakası ve seri direncin etkileri incelendi. Al/Si3N4/pSi
(MIS) Schottky engel diyotlar, Al/p-Si arayüzey tabakasındaki Si3N4 varlığı yüzünden ideal Schottky
diyotlar yerine, idealite faktör değerinin 6.17 ve engel yüksekliği değerinin 0.714 eV olmasıyla
doğrultucu davranış göstermesi, (MIS) metal- arayüzey tabakası- yarıiletken yapısına uyar. Seri direncin
( Rs) değerleri Cheung’ in metodu kullanılarak tanımlandı. Buna ilave olarak, (Ess-Ev) nin bir fonksiyonu
olarak, arayüzey durumlarının yoğunluğu ( Nss), seri direncin hesaba katıldığı ve katılmadığı I-V
ölçümlerinden elde edildi. I-V karakteristikleri; Nss dağılımı , Rs ve arayüzey yalıtkan tabakanın, MIS
Schottky diyotların elektriksel karakteristiklerini etkileyen önemli parametreler olduğunu
doğrulanmıştır.
Subjects | Engineering |
---|---|
Journal Section | Articles |
Authors | |
Publication Date | August 30, 2015 |
Submission Date | February 5, 2015 |
Published in Issue | Year 2015 Volume: 15 Issue: 2 |